Нанопечатная литография. Нанопечатная литография реферат

Реферат Литография

Реферат на тему:

План:

Введение
• 1 Возникновение литографии
• 2 Печать изображения
• 3 Различные техники подготовки изображения и печати
• 4 Произведение искусства, выполненное техникой плоской печати
• 5 Русская литография XIX в
• 6 Художники, использующие технику литографии
ПримечанияИсточники

Введение

Фотография литографского камня и литографии — карты Мюнхена.

Большой Царицынский дворец во второй половине XIX века. Литография

Литография — способ печати, при котором краска под давлением переносится с плоской печатной формы на бумагу. В основе литографии лежит физико-химический принцип, подразумевающий получение оттиска с совершенно гладкой поверхности (камня), которая, благодаря соответствующей обработке, приобретает свойство на отдельных своих участках принимать специальную литографскую краску.

Под литографией понимают:

• вид тиражной графики, основанный на технике плоской печати;
• способ плоской печати;
• произведение искусства, выполненное техникой плоской печати.
• в микроэлектронике технологию, которая применяется при изготовлении полупроводниковых приборов, интегральных микросхем, а также некоторых сверхпроводниковых наноструктур.
  • В общем случае: универсальный способ получения изображения элементом микросхемы на кристалле полупроводника; делится на три основных вида: оптическую, рентгеновскую и электронную.

• В частном случае: планарную технологию, заключающуюся в формировании в активночувствительном слое, нанесенном на поверхность подложек, рельефного рисунка и последующего переноса этого рисунка на подложки.

1. Возникновение литографии

Литография (от др.-греч. λίθος — камень и γράφω — пишу, рисую) была создана в 1796 году Алоизием Зенефельдером в Богемии, и это была первая принципиально новая техника печати после изобретения гравюры в XV веке.

2. Печать изображения

Литографский камень закрепляется в литографском станке. Исходное изображение смывается. Взамен валиком на увлажненный камень наносится печатная краска на основе олифы, пристающая лишь к непротравленным частям камня, в точности соответствующим рисунку. Бумага посредством литографского станка плотно прижимается к покрытому краской литографскому камню или пластине (прокатывается или «протаскивается»; во втором случае, исторически — первом, изображение перетискивается с камня на бумагу, благодаря заданному давлению, оказываемому на печатную плоскость т. н. ребером через скользящие под ним папки). Таким образом, на оттиске рисунок получается покрытым краской, а фон остается белым.

3. Различные техники подготовки изображения и печати

Для цветной литографии подготавливаются отдельные камни или пластины для основных цветов и черного цвета, и печать производится на один лист последовательно. Есть и другие способы создания изображения, которые можно комбинировать между собой. Как правило, художник выполняет только рисунок, а обработку камней и процесс печати осуществляет мастер. Иногда сам художник выполняет всю цепочку производства литографии — от шлифования камня смесью песка и воды до конечного этапа печати. В таком случае сама техника и полученный оттиск получают название «авторская литография», или «автолитография». Литография имеет очень много разновидностей, например, литохромия, литогравюра. Но теперь все литографические техники чаще всего имеют общее название — «литография». Сегодня, спустя двести лет, мало что изменилось в технике литографии. Разве что камень практически повсеместно заменили алюминиевыми и стальными пластинами — по той причине, что природные камни очень тяжелы.

Автография (др.-греч. αὐτός — «сам» и γράφω — «пишу, рисую») — техника, в которой художник рисует не на самом камне, а на специальной переводной — автографской бумаге ([корнпапире]), с которой рисунок механически переносится на камень. Преимущества автографии: художник получает возможность рисовать обычным образом — не применяя зеркального изображения; литографии становятся доступными любые зарисовки с натуры. По полноте технических средств автография уступает автолитографии. [1][2][3][4][5].

4. Произведение искусства, выполненное техникой плоской печати

Литография обладает большой свободой в передаче фактуры и в других средствах художественной выразительности, причем каждый оттиск является оригиналом и имеет самостоятельную художественную ценность. Авторская тиражная графика выполняется всегда ограниченным тиражом, о чем свидетельствует нумерация каждого оттиска тиража, обязательная для оригинальных литографий. Каждый лист литографии является подлинным авторским произведением, о чем свидетельствует обязательная подпись автора.

5. Русская литография XIX в

В становлении литографии в России как самостоятельной художественной дисциплины приняли непосредственное участие А. Е. Мартынов, А. О. Орловский, А. Г. Венецианов, П. Ф. Соколов, Е. И. Гейтман, К. П. Беггров, А.А.Васильевский, О. А. Кипренский, А. П. Брюллов, Е.И.Эстеррейх, С. Ф. Галактионов, П. Ф. Борель, В. И. Погонкин, П. И. Разумихин, А.М.Калашников, Л.А.Белоусов, И. С. Щедровский, А.А.Тон

6. Художники, использующие технику литографии

Острожский замок, З. Фогель

• Джованни Баттиста Пиранези (Giovanni Battista Piranesi)
• Оноре Домье (Honoré Daumier)
• Эжен Делакруа (Eugène Delacroix)
• Одо Добровольский (Odo Dobrowolski)
• Анри де Тулуз-Лотрек (Henri de Toulouse-Lautrec)
• Пьер-Огюст Ренуар (Pierre-Auguste Renoir)
• Анри Матисс (Henri Matisse)
• Марк Шагал (Marc Chagall)
• Пабло Пикассо (Pablo Picasso)
• Станислав Выспянский (Stanisław Wyspiański)
• Наполеон Орда (Napoleon Orda)
• Евгений Адольфович Кибрик
• Валентин Серов
• Дмитрий Исидорович Митрохин
• Дали, Сальвадор (Salvador Dalí)
• Верейский, Георгий Семенович (Vereiski Georgi)

Примечания

1. Томкович Е. А. Домашняя литография. Руководство по автографии и перепечатыванию для канцелярий. — СПб.,1893
2. Константинова С. С. Техника изобразительного искусства: конспект лекций. — Ростов/Дон, 2004
3. Альбион Галерея — Основные техники печатной графики - www.antik.msk.ru/print_tech.html
4. Справочник полиграфиста — A - www.ipoligraf.ru/page/guide_0.html
5. Техника и виды гравюры - www.obook.ru/index.php?action=show_articles&subid=56

wreferat.baza-referat.ru

Нанолитография.

Под литографией понимают совокупность фотохимических и физи­кохимических процессов, используемых для послойного формиро­вания топологического рисунка элементов интегральных схем, а также элементов наноструктур. В процессе литографии осуществляется перенос изображения от шаблона или программы его описывающей к поверхностным слоям планарных подложек.

1. Разрешающая способность.

Из общей физики известно, что при формировании изображения определяющим является разрешающая способность оптической системы. Под разрешающей способностью будем понимать способность приборов, формирующих изображение, давать раздельное изобра­жение двух максимально близких точек исходного объекта.

Еще в 1879 году Дж. У. Релей, исходя из дифракционной теории света, сформулировал критерий (получивший его имя), в соответст­вии с которым изображение двух точек можно видеть раздельно, ес­ли центр дифракционного пятна каждого из них пересекается с кра­ем темного кольца другого (рис. 2.16).

Рис. 2.16. Распределение освещенности Е в изобра­жении двух точечных источников света.

Источники света расположены так, что угловое расстояние меж­ду максимумами освещенности Δφ равно угловой величине радиуса центрального дифракционного пятна Δθ. В этом случае критерий Релея запишется в виде

Угловое расстояние между центрами дифракционных пятен, или, что тоже, между максимумами освещенности, определяется выражением

где λ - длина волны излучения, D — апертурная диафрагма системы (для линзы –диаметр окна через которое проникает свет).

Если оп­тическая система имеет фокусное расстоя­ние f, то линейная величина предела раз­решения δ определится как

где К1 называют коэффициентом Релея.

Разрешающая способность растет с уменьшением длины волны излучения λ и с увеличением апертуры D.

В процессах литографии большое значение играет величина, на­зываемая глубиной резкости h, определяемая как

Расстояние вдоль оптической оси в зоне объекта в пределах которого все выглядит резко.

Безразмерные коэффициенты К1 и К2 играют существенную роль в литографических процессах. Так уменьшение значения К1 позволяет повысить разрешающую способность системы, работая в области дифракционных ограничений объектива.

В современных степперах путем совершенствования объективов, фоторезисторов, процессов экспонирования и проявления удается достичь значения К2 = 0,25 - 0,35.

В зависимости от длины волны излучения и способов получения излучения различают оптическую фотолитографию, электронную литографию, ионную литографию и рентгеновскую литографию. Именно технические параметры процессов литографии, производи­тельность литографических процессов и их экономичность опреде­ляют сегодня стоимость изделий микроэлектроники, а завтра будут определять эффективность производства изделий наноэлектрони­ки — конечно же, при условии использования литографических процессов не только в планарной технологии, но и в создании объ­емных наноструктур при групповой технологии производства.

В современном микроэлектронном производстве работают высо­копроизводительные (~ 100 пластин/час) степперы-сканеры с по­шаговым экспонированием изображения на чип. В них используется оптическое излучение в области глубокого ультрафиолета.

studfiles.net

Литография. Искусство, прошедшее сквозь века

В век, когда всюду нас окружают 3D-принтеры и виртуальная реальность, литография может показаться устарелым понятием. Когда-то эта техника была популярна, однако сейчас она практически исчезла из виду, уступая место новым идеям и методам.

Сам по себе процесс печатания не нов. Он впервые возник в 3000 году до н.э. в колыбели человеческой цивилизации, Месопотамии, где круглые печати для вдавливания оттисков в глину явились первым вещественным доказательством создания эстампов. После трафаретов, которые широко использовались в древнем Египте для украшения тканей, пришёл черёд ксилографии (гравюры на дереве). Она впервые появилась примерно в 220 году н.э. в Китае и вскоре распространилась практически по всей Азии, а со временем – и в Европе. Через 800 лет, в 1040 году, вновь в Китае, возникла печать посредством подвижных литер. Это произвело революцию в распространении печатной информации. Данная система печати использовала подвижные элементы металлических литер (их отливали в формах, вытисненных буквенными штемпелями).

Литографская печатная машина в книге Элиши Нойс «Мальчишеская книга промышленной информации», 1858

Эта более быстрая и надёжная технология легла в основу печатной машины, которая появилась на свет в 1439 году, с подачи Йоханнеса Гутенберга из немецкого города Майнц. Наряду с инновационным способом создания и использования маслосодержащих чернил (которые сохранялись дольше, чем краски на водной основе, используемые ранее), печатные машины заполонили всю Европу, ускоряя распространение знаний и таким образом становясь главной движущей силой эпохи Возрождения. В то же время, создание изображений посредством гравирования, травления и меццо-тинто оставались нормой в течение нескольких столетий. Каждый из этих методов подразумевал различные способы создания углублений на печатной пластине (обычно металлической). Эти углубления затем покрывались чернилами и использовались для многократного создания изображений оригинального проекта. При гравировке для создания аккуратных чётких линий на медной поверхности использовалась острая игла. Травление основывалось на покрытии поверхности воском, на котором впоследствии рисовали. Пластину погружали в кислоту, которая разъедала непокрытый воском металл, оставляя после себя линии, погруженные в жёсткий литографский материал. Меццо-тинто – это первый способ, который позволил изобразить полутона без использования техник на основе линий или точек. Череда инноваций продолжалась, и в 1796 году возникла новая техника, ставшая центром внимания минимум на век, – литография.

Так что же такое литография?

Слово «литография» происходит от древнегреческих слов “lithos”, «камень» и “graphein”, «писать». Оно обозначает метод планографической печати (печати на плоской поверхности), а также процесс печатания с применением расслоения жира и воды, которые контактируют друг с другом. Литографию изобрёл Алоиз Зенефельдер в Королевстве Бавария в конце XVIII века. В отличие от предыдущих методов, основывавшихся на различных формах травления, литография – это более «художественное» средство. Используя набор масляных мелков, художник пишет отзеркаленное изображение подлинного произведения живописи на гладкой каменной скрижали (как правило, известняковой). После того, как изображение воссоздается в оптимальном для художника виде, оно покрывается чернилами. Площадь пробельных элементов притягивает влагу к пластине и отражает литографскую тушь, в то время как области с изображением её удерживают. Вода затем вытирается с неокрашенных областей, чтобы не дать чернилам размазаться. Когда тушь (чернило) высыхает, она образует сетчатый узор. Сетеобразные элементы остаются на камне и обычно присутствуют и на конечном изображении в виде уникальной визуальной особенности литографии на камне.

Чтобы закрепить изображение, слить его воедино с камнем, на пластине готовится раствор аравийской камеди и азотной кислоты. При контакте с камнем азотная кислота реагирует с масляной кислотой (жиром) до создания олеомагната извести. Благодаря кислоте тёмные области начинают принимать чернила и отталкивать воду, в то время как со светлыми областями происходит обратное. Затем посредством специального пресса вся поверхность покрывается листом бумаги с высоким содержанием хлопка. Если мы имеем дело с литографией со сложными цветами, может потребоваться несколько серий с четырьмя различными цветными чернилами – жёлтым, красным, голубым и чёрным. Затем тот же самый лист бумаги необходимо будет помещать над пластинами, повторно покрытыми чернилами. Сделать это необходимо очень точно, чтобы создать литографский оттиск удовлетворяющего вас качества. С тех пор исконный метод претерпел небольших изменений, но идея, лежащая в его основе, продолжала использоваться.

Джон Джеймс Одюбон – Луизианская цапля, 1844

История литографии – XIX век

1796 год ценен изобретением нового революционного метода, который господствовал в печатной индустрии в течение всего последующего века и даже позднее. Алоиз Зенефельдер использовал лучший известняк из карьеров Зольнхофена, что в Баварии. Изобретенная им литография сперва позволяла создавать лишь монохромные (одноцветные) оттиски. Но это всё ещё было передовым открытием, так как позволяло художнику использовать традиционные техники, создавая оттиски, которые могли с лёгкостью конкурировать с оригинальными произведениями в плане деталей, тонов и добавление цветовых вариаций. Изначально единственным способом придания изображению цветности было ручное добавление нескольких мазков акварели художником. После того, как данный способ печатания приобрёл широкую популярность в 1820-е годы, примерно в 1830 году возникла хромолитография (цветная литография), которая привнесла богатство новых цветовых эффектов и впечатление максимальной приближённости к картине. Это был трудоёмкий процесс, часто включающий использование нескольких камней для печатания. Камни необходимо было с большой осторожностью выравнивать так, чтобы все линии и тона совпадали. Новый метод распространился с молниеносной скоростью, и вскоре репродукции и оттиски известных картин, книжные иллюстрации, яркие ботанические исследования, плакаты, ручные веера, - всё это создавали в форме литографии. Гойя был первым художником, который исследовал возможности данного художественного средства. Вскоре за ним последовали Теодор Жерико и Эжен Делакруа. В попытке изобразить каждую птицу в Северной Америке натуралист и художник Джон Джеймс Одюбон выпустил труд «Птицы Америки», который приобрел огромную популярность, будучи переизданным ограниченным тиражом в виде хромолитографии в 1844 году. Плакаты Тулуз-Лотрека для Фоли Бержер и Мулен Руж, созданные в 1890-х годах, остаются знаковыми образами декаданса эпохи «конца века». В то же время, элегантные композиции Альфонса Мухи являются воплощением гламура в стиле модерн.

Анри де Тулуз-Лотрек – Джейн Авриль в «Жарден де Пари», 1893

Произведение печати как отдельный вид искусства в XX веке

Расцвет рукотворной литографии пришёлся на1820-1900 годы. Творческий процесс требовал колоссального количества времени и был дорогим удовольствием. Развитие издательского дела требовало более доступных по цене средств, и вскоре, чтобы удовлетворить потребностям времени, были изобретены новые техники печатания с форм, изготовленных фотомеханическим способом. I Мировая война порвала со старым во многих смыслах, и литография стала еще одним явлением, отошедшим в прошлый век. Самый популярный способ печатания скрылся из виду, отходя в свой последний оплот – мастерскую художника. С тех самых пор литография и осталась там, не как экономически рентабельный проект, но как самоцель, ещё одно средство художественного выражения. Марк Шагал, Анри Матисс, Жоан Миро и Пабло Пикассо, - все они исследовали литографию вплотную, открывая новые техники сообразно своим языкам визуального общения. Цветовые плоскости Матисса составляли контраст более монохромному линейному и несколько грубому литографскому стилю Пикассо, в то время как Мауриц Корнелис Эшер представил на стенах галерей свой герметичный тщательно продуманный сюрреализм. Нельсон Мандела, человек, которого чаще всего ассоциируют с борьбой с апартеидом, важная политическая фигура и филантроп, также обладал творческой жилкой. Его оттиски и литографии в наше время высоко ценятся на рынке, несмотря на некоторую сложность в их распознавании.

Пабло Пикассо – Бык, 1945

Нанолитография. Использование старой технологии в новом тысячелетии

В большинстве случаев тот факт, что конечный продукт принимается творческим миром в качестве новой техники или метода, является побочным результатом совершенствования технологии. Иногда происходит совершенно иначе: наука может взять за основу проверенную временем методику из мира искусства и развить её дальше для достижения далёкой от искусства цели. Наряду с некоторыми общепризнанными техниками, развиваются и новые перспективные технологии. Погружаясь в мир микро- и нано-частиц, исследование и применение новых микроскопических структур находится на подъеме как очень активно развивающаяся область исследований в науке и промышленности. Нанопечатная литография используется для изготовления структур нанометрового масштаба, в то время как то же самое можно создать при помощи интерференционной литографии, но без использования сложных оптических систем или фотомасок. Рентгенолитография используется для избирательного удаления частей тонкой пленки посредством перенесения геометрического рисунка с так называемой маски на светочувствительный химический фоторезист на подложке. Литография крайнего ультрафиолетового диапазона, магнитная литография, молекулярная самосборка, написание протонными пучками и литография измерительной головкой непрерывного контакта (также известная как нанолитографический метод погружного пера) также находятся на острие современных научных исследований. Многие из этих новых методов сейчас успешно используются в некоторых коммерческих, а также научно-исследовательских сферах.

Нанолитографический метод погружного пера (перьевая нанолитография) – Молекулярные чернила, распыляемые из наноразмерной головки на поверхность через водный мениск

Литографская печать как предмет коллекционирования

Несмотря на появление всё новых революционных технологий, литография глубоко укоренилась как вид искусства. В эру массового производства, печати жикле сомнительного качества, решение проблем на скорую руку является нормой. Трудоёмкий способ литографской печати в таких условиях немедленно придаёт ценности произведению искусства. К тому же, следует учитывать уровень известности творца, качество работы, тип использованных чернил, редкость печати и т.д., - и тогда ценность в качестве объекта перепродажи на рынке оказывается значительно выше, чем ожидалось. Конечно, есть множество других способов создания репродукции оригинальной работы, но очень важно понимать, что представленные на рынке изделия литографии не обязательно имеют ограниченный тираж. Острый взор и принятие во внимание всех факторов могут увенчаться успехом. Авторизованная копия оригинальной работы редко стоит больше оригинальной работы и может стать хорошей отправной точкой для новичка, рассчитывающего собрать свою коллекцию. Последний и не менее важный момент, который необходимо учесть – это уровень вовлеченности художника в процесс. Так, для дифференциации уровней участия самобытного художника был учреждён британский стандарт BS 7876:1996. Категория «А» означает, что художник создал матрицу и напечатал работу, в то время как Категория «F» и последующие за ней указывают на представителя художника, которого уполномочили создать отпечаток существующего произведения искусства, без дополнительного участия художника. Учитывая всё это, литография, несомненно, является увлекательным и разноречивым явлением, как для деятеля изобразительного искусства, так и для коллекционера.

Жаклин Клайд

© md-eksperiment.org

Ключевые слова: что такое литография, история литографии, виды литографии, как сделать литографию, Йоханнес Гутенберг, этимология, Алоиз Зенефельдер, как закрепить литографию, монохромная литография, хромолитография, цветная литография, Гойя, Жерико, Делакруа, Одюбон,

md-eksperiment.org

Нанопечатная литография - WikiVisually

1. Наноструктура – A nanostructure is a structure of intermediate size between microscopic and molecular structures. Nanostructural detail is microstructure at nanoscale, in describing nanostructures, it is necessary to differentiate between the number of dimensions in the volume of an object which are on the nanoscale. Nanotextured surfaces have one dimension on the nanoscale, i. e. only the thickness of the surface of an object is between 0.1 and 100 nm. Nanotubes have two dimensions on the nanoscale, i. e. the diameter of the tube is between 0.1 and 100 nm, its length can be far more. Finally, spherical nanoparticles have three dimensions on the nanoscale, i. e. the particle is between 0.1 and 100 nm in each spatial dimension, the terms nanoparticles and ultrafine particles are often used synonymously although UFP can reach into the micrometre range. The term nanostructure is often used referring to magnetic technology. Nanoscale structure in biology is often called ultrastructure, properties of nanoscale objects and ensembles of these objects are widely studied in physics. Nanomaterials Nanotechnology List of software for nanostructures modeling Nano Flakes May Revolutionize Solar Cells Applications of Nanoparticles

2. Штамп (техника) – A die is a specialized tool used in manufacturing industries to cut or shape material mostly using a press. Like molds, dies are generally customized to the item they are used to create, products made with dies range from simple paper clips to complex pieces used in advanced technology. Forming dies are made by tool and die makers and put into production after mounting into a press. The die is a block that is used for forming materials like sheet metal. For the vacuum forming of sheet only a single form is used. Vacuum forming is considered a simple molding thermoforming process but uses the principles as die forming. The workpiece may pass through several stages using different tools or operations to obtain the final form, the main components for die tool sets are, Die block – This is the main part that all the other parts are attached to. Punch plate – This part holds and supports the different punches in place, blank punch – This part along with the blank die produces the blanked part. Pierce punch – This part along with the pierce die removes parts from the finished part. Stripper plate – This is used to hold the material down on the blank/pierce die, pilot – This will help to place the sheet accurately for the next stage of operation. Guide, back gauge, or finger stop – These parts are all used to make sure that the material being worked on always goes in the position, within the die. Setting block – This part is used to control the depth that the punch goes into the die, Blanking dies – See blanking punch Pierce die – See pierce punch. Shank – used to hold in the presses and it should be aligned and situated at the center of gravity of the plate. Processes, Blanking, A blanking die produces a piece of material by cutting the desired shape in one operation. The finished part is referred to as a blank, generally a blanking die may only cut the outside contour of a part, often used for parts with no internal features. Three benefits to die blanking are, Accuracy, a properly sharpened die, with the correct amount of clearance between the punch and die, will produce a part that holds close dimensional tolerances in relationship to the parts edges. Since the part is blanked in one operation, the edges of the part produces a uniform appearance as opposed to varying degrees of burnishing from multiple operations. Due to the compression of the blanking process, the end result is a flat part that may retain a specific level of flatness for additional manufacturing operations

3. Фотолитография – Photolithography, also termed optical lithography or UV lithography, is a process used in microfabrication to pattern parts of a thin film or the bulk of a substrate. It uses light to transfer a geometric pattern from a photomask to a light-sensitive chemical photoresist, or simply resist, on the substrate. A series of chemical treatments then engraves the exposure pattern into, or enables deposition of a new material in the desired pattern upon. For example, in integrated circuits, a modern CMOS wafer will go through the photolithographic cycle up to 50 times. This procedure is comparable to a high precision version of the used to make printed circuit boards. Subsequent stages in the process have more in common with etching than with lithographic printing and its main disadvantages are that it requires a flat substrate to start with, it is not very effective at creating shapes that are not flat, and it can require extremely clean operating conditions. The root words photo, litho, and graphy all have Greek origins, with the light, stone. As suggested by the name compounded from them, photolithography is a method in which light plays an essential role. In the 1820s, Nicephore Niepce invented a process that used Bitumen of Judea. In 1954, Louis Plambeck Jr. developed the Dycryl polymeric letterpress plate, a single iteration of photolithography combines several steps in sequence. Modern cleanrooms use automated, robotic wafer track systems to coordinate the process, the procedure described here omits some advanced treatments, such as thinning agents or edge-bead removal. Other solutions made with trichloroethylene, acetone or methanol can also be used to clean, the wafer is initially heated to a temperature sufficient to drive off any moisture that may be present on the wafer surface,150 °C for ten minutes is sufficient. Wafers that have been in storage must be cleaned to remove contamination. A liquid or gaseous adhesion promoter, such as Bisamine, is applied to promote adhesion of the photoresist to the wafer. The surface layer of silicon dioxide on the wafer reacts with HMDS to form tri-methylated silicon-dioxide, in order to ensure the development of the image, it is best covered and placed over a hot plate and let it dry while stabilizing the temperature at 120 °C. The wafer is covered with photoresist by spin coating, a viscous, liquid solution of photoresist is dispensed onto the wafer, and the wafer is spun rapidly to produce a uniformly thick layer. The spin coating typically runs at 1200 to 4800 rpm for 30 to 60 seconds, the spin coating process results in a uniform thin layer, usually with uniformity of within 5 to 10 nanometres. Thus, the top layer of resist is quickly ejected from the edge while the bottom layer still creeps slowly radially along the wafer

4. Электронная литография – Electron-beam lithography is the practice of scanning a focused beam of electrons to draw custom shapes on a surface covered with an electron-sensitive film called a resist. The electron beam changes the solubility of the resist, enabling selective removal of either the exposed or non-exposed regions of the resist by immersing it in a solvent. The purpose, as with photolithography, is to very small structures in the resist that can subsequently be transferred to the substrate material. The primary advantage of electron-beam lithography is that it can draw custom patterns with sub-10 nm resolution and this form of maskless lithography has high resolution and low throughput, limiting its usage to photomask fabrication, low-volume production of semiconductor devices, and research and development. Electron-beam lithography systems used in applications are dedicated e-beam writing systems that are very expensive. For research applications, it is common to convert an electron microscope into an electron beam lithography system using a relatively low cost accessories. Such converted systems have produced linewidths of ~20 nm since at least 1990, electron-beam lithography systems can be classified according to both beam shape and beam deflection strategy. Older systems used Gaussian-shaped beams and scanned these beams in a raster fashion, newer systems use shaped beams, which may be deflected to various positions in the writing field. Lower-resolution systems can use thermionic sources, which are formed from lanthanum hexaboride. However, systems with higher-resolution requirements need to use field electron emission sources, such as heated W/ZrO2 for lower energy spread, both electrostatic and magnetic lenses may be used. However, electrostatic lenses have more aberrations and so are not used for fine focusing, there is no current mechanism to make achromatic electron beam lenses, so extremely narrow dispersions of the electron beam energy are needed for finest focusing. Typically, for small beam deflections electrostatic deflection lenses are used. Because of the inaccuracy and because of the number of steps in the exposure grid the writing field is of the order of 100 micrometre –1 mm. An accurate stage is critical for stitching and pattern overlay, for example, assuming an exposure area of 1 cm2, a dose of 10−3 coulombs/cm2, and a beam current of 10−9 amperes, the resulting minimum write time would be 106 seconds. To cover the 700 cm2 surface area of a 300 mm silicon wafer and this is a factor of about 10 million times slower than current optical lithography tools. It is clear that throughput is a limitation for electron beam lithography. E-beam lithography is not suitable for manufacturing because of its limited throughput. The smaller field of electron beam writing makes for very slow pattern generation compared with photolithography because more exposure fields must be scanned to form the final pattern area, the stage moves in between field scans

5. Creative Commons – Creative Commons is an American non-profit organization devoted to expanding the range of creative works available for others to build upon legally and to share. The organization has released several copyright-licenses known as Creative Commons licenses free of charge to the public and these licenses allow creators to communicate which rights they reserve, and which rights they waive for the benefit of recipients or other creators. An easy-to-understand one-page explanation of rights, with associated visual symbols, Creative Commons licenses do not replace copyright, but are based upon it. The result is an agile, low-overhead and low-cost copyright-management regime, Wikipedia uses one of these licenses. The organization was founded in 2001 by Lawrence Lessig, Hal Abelson, the first article in a general interest publication about Creative Commons, written by Hal Plotkin, was published in February 2002. The first set of licenses was released in December 2002. In 2003 the Open Content Project, a 1998 precursor project by David A. Wiley, announced the Creative Commons as successor project, matthew Haughey and Aaron Swartz also played a role in the early stages of the project. As of January 2016 there were an estimated 1.1 billion works licensed under the various Creative Commons licenses, as of March 2015, Flickr alone hosts over 306 million Creative Commons licensed photos. Creative Commons is governed by a board of directors and their licenses have been embraced by many as a way for creators to take control of how they choose to share their copyrighted works. Beyond that, Creative Commons has provided institutional, practical and legal support for individuals and groups wishing to experiment, Creative Commons attempts to counter what Lawrence Lessig, founder of Creative Commons, considers to be a dominant and increasingly restrictive permission culture. Lessig describes this as a culture in which creators get to create only with the permission of the powerful, as of 2017, they are Paul Keller, Jonathan Nightingale, Chris Thorne. As of 2015, there are more than 100 affiliates working in over 75 jurisdictions to support, Creative Commons Korea is the affiliated network of Creative Commons in South Korea. In March 2005, CC Korea was initiated by Jongsoo Yoon, the major Korean portal sites, including Daum and Naver, have been participating in the use of Creative Commons licences. In January 2009, the Creative Commons Korea Association was consequently founded as an incorporated association. Since then, CC Korea has been promoting the liberal. Since March 15,2012 he has been detained by the Syrian government in Damascus at Adra Prison, on October 17,2015 Creative Commons Board of Directors approved a resolution calling for Bassel Khartabil release. All current CC licenses require attribution, which can be inconvenient for works based on other works. Critics also worried that the lack of rewards for content producers will dissuade artists from publishing their work, Creative Commons founder Lawrence Lessig countered that copyright laws have not always offered the strong and seemingly indefinite protection that todays law provides

6. Нанотехнология – Nanotechnology is manipulation of matter on an atomic, molecular, and supramolecular scale. It is therefore common to see the plural form nanotechnologies as well as nanoscale technologies to refer to the range of research. Because of the variety of applications, governments have invested billions of dollars in nanotechnology research. Until 2012, through its National Nanotechnology Initiative, the USA has invested 3.7 billion dollars, scientists currently debate the future implications of nanotechnology. Nanotechnology may be able to create new materials and devices with a vast range of applications, such as in nanomedicine, nanoelectronics, biomaterials energy production. These concerns have led to a debate among advocacy groups and governments on whether regulation of nanotechnology is warranted. The term nano-technology was first used by Norio Taniguchi in 1974, also in 1986, Drexler co-founded The Foresight Institute to help increase public awareness and understanding of nanotechnology concepts and implications. In the 1980s, two major breakthroughs sparked the growth of nanotechnology in modern era, the microscopes developers Gerd Binnig and Heinrich Rohrer at IBM Zurich Research Laboratory received a Nobel Prize in Physics in 1986. Binnig, Quate and Gerber also invented the atomic force microscope that year. Second, Fullerenes were discovered in 1985 by Harry Kroto, Richard Smalley, and Robert Curl, in the early 2000s, the field garnered increased scientific, political, and commercial attention that led to both controversy and progress. Controversies emerged regarding the definitions and potential implications of nanotechnologies, exemplified by the Royal Societys report on nanotechnology, challenges were raised regarding the feasibility of applications envisioned by advocates of molecular nanotechnology, which culminated in a public debate between Drexler and Smalley in 2001 and 2003. Meanwhile, commercialization of products based on advancements in nanoscale technologies began emerging and these products are limited to bulk applications of nanomaterials and do not involve atomic control of matter. Governments moved to promote and fund research into nanotechnology, such as in the U. S, by the mid-2000s new and serious scientific attention began to flourish. Projects emerged to produce nanotechnology roadmaps which center on atomically precise manipulation of matter and discuss existing and projected capabilities, goals, Nanotechnology is the engineering of functional systems at the molecular scale. This covers both current work and concepts that are more advanced, one nanometer is one billionth, or 10−9, of a meter. By comparison, typical carbon-carbon bond lengths, or the spacing between atoms in a molecule, are in the range 0. 12–0.15 nm. On the other hand, the smallest cellular life-forms, the bacteria of the genus Mycoplasma, are around 200 nm in length, by convention, nanotechnology is taken as the scale range 1 to 100 nm following the definition used by the National Nanotechnology Initiative in the US. The lower limit is set by the size of atoms since nanotechnology must build its devices from atoms and molecules

wikivisually.com

литография

Исторически литография — это способ перенесения на бумагу изображения или текста с плоской поверхности камня, на которой они предварительно были созданы. В настоящее время термин «литография» используется в широком смысле как техника переноса изображения.

Применительно к области нанотехнологий под литографией чаще всего понимают технологию микроэлектроники, включающую в себя набор нескольких этапов:

1) нанесение фоточувствительной полимерной пленки (фоторезиста) на кремниевую пластину;

2) сушку и последующее облучение (экспонирование) пленочного покрытия пластины с определенным рисунком через соответствующую маску;

3) проявление (травление) экспонированного покрытия в специальном растворе;

4) формирование на подложке физической структуры элементов электронной схемы.

В последнее десятилетие термин «литография» используется в более широком значении: как метод формирования на поверхности подложки не только электронных схем, но и наноструктур (или рисунков с нанометровым разрешением) путем переноса их изображения с помощью маски или штампа, или же непосредственным воздействием на поверхность образца (литография с помощью СТМ или АСМ).

Различают оптическую, ультрафиолетовую, рентгеновскую, электронно-лучевую и ионно-лучевую литографию. Интерференционная голографическая литография может осуществляться с использованием светового, ультрафиолетового или синхротронного рентгеновского излучения.

Использование сканирующей туннельной микроскопии (СТМ) позволяет также реализовать ряд нанолитографических операций, как то, модификацию поверхности, перенос материала зонда на образец и наоборот, что делает возможным создание литографических рисунков с нанометровым разрешением.

Проведение литографии возможно также с использованием атомной силовой микроскопии (АСМ). При таком подходе зонд микроскопа перемещается по поверхности подложки с достаточно большой силой прижима, так что на подложке (или на лежащем на ней слое резиста) формируется рисунок в виде углублений (царапин). Альтернативой силового прижима зонда является подача на образец токового импульса (при этом область воздействия может расплавляться или частично испаряться). Такой способ литографии (наногравировки) обладает рядом преимуществ по сравнению электронно/ионно-лучевыми литографиями, в частности, нет необходимости в дополнительных технологических операциях (травление и пр.). Однако имеются и недостатки — при статическом воздействии зонда случайные торсионные изгибы кантиливера приводят к краевым неоднородностям рисунка, а операции сканирования (предшествующие и последующие нанолитографической операции) приводят к сдвиговым искажениям рисунка.

В случае динамической литографии с использованием АСМ формирование углублений происходит с помощью колеблющегося зонда с использованием прерывисто-контактного метода сканирования. Такой способ решает проблемы искажения рисунка (и позволяет визуализовать сформированный рисунок без серьезного воздействия на поверхность). Такая литография может производиться с помощью векторного или растрового сканирования (первый способ по сравнению со вторым делает возможным высокую скорость процесса, но при этом не дает возможности варьировать силу воздействия на подложку в процессе литографии). Одной из важных разновидностей АСМ-литографии является анодно-окислительная литография, когда указанным методом можно менять не только геометрические характеристики поверхности, но и ее локальные электрофизические свойства (приложение электрического смещения к проводящему кантиливеру стимулирует протекание электрохимических процессов на поверхности непосредственно под образцом, при этом может происходить окисление металлических слоев, см. анодирование). Зонд и поверхность образца выступают в таком процессе как катод и анод — и в зависимости от прикладываемого электрического потенциала можно варьировать толщину выращиваемого анодного оксида.

thesaurus.rusnano.com

Смотрите также

• 
  Зимушка зима реферат
• 
  Желчегонные средства реферат
• 
  Любительская радиосвязь реферат
• 
  Строительная физика реферат
• 
  Следж хоккей реферат
• 
  Сеченов биография реферат
• 
  Санжар асфендияров реферат
• 
  Архитектурные ордера реферат
• 
  Спортивное сердце реферат
• 
  Рафинирование меди реферат
• 
  Наследственная трансмиссия реферат